Согласно сообщению ведомства, комплекс состоит из двух частей, передает РИА «Новости». Первая – промышленный образец установки безмасочной нанолитографии. Второй элемент – промышленный образец установки плазмохимического травления кремния. Как добавили в министерстве, разработка поможет решить вопрос технологического суверенитета России в сфере микроэлектроники.
Первым этапом создания наноструктур является процесс литографии (получение изображения на подложке), который обычно ведут на зарубежном оборудовании. Петербургские ученые предложили использовать технологию безмасочной нанолитографии. По оценкам ученых, такая установка будет стоить примерно 5 млн рублей, в отличие от 10-13 млрд рублей за иностранную. Также для работы прибора ученые разработали программное обеспечение.
Вторым этапом для создания наноструктур является процесс так называемого плазмохимического травления по созданному на первом шаге рисунку. Кроме формирования наноструктур, на этой установке можно создавать кремниевые мембраны, которые будут использоваться в судовых датчиках избыточного давления.
«Созданные на установке плазмохимического травления мембраны по надежности и чувствительности превосходят изготовленные методами жидкостного или лазерного травления. Кроме того, являются полностью отечественным продуктом», – отметил руководитель научной группы, завлабораторией «Технологии материалов и изделий электронной техники» СПбПУ Артем Осипов.
В планах специалистов СПбПУ – внедрить машинное обучение на обе установки, а также продолжить создание технологий и для силовой электроники.
Ранее президент России Владимир Путин на первом Форуме будущих технологий «Вычисления и связь. Квантовый мир» заявил, что в России необходимо «раскрутить» собственную микроэлектронную промышленность, поскольку потребность в вычислительных ресурсах растет.